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アニロックス
当社の扱うアニロックスは硬度が高く、多孔率の低いセラミック層を形成し、高い出力のレーザー彫刻を行うことによってセル表面の平滑性を向上させ、高いインキリリース性を実現しています。セラミック溶射の均一性を高めることによってセルボリュームのばらつきを抑え、インキの転移性を安定させています。